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标题: 镀铝层厚度测量 [打印本页]

作者: Bruce 时间: 2012-3-18 18:37
标题: 镀铝层厚度测量
1、镀铝层厚度测量

由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，常用的检测方法有：

电阻法

电阻法是利用欧姆定律来对镀铝层的厚度进行测量，根据欧姆定律R＝ρ×L/S，单位面积镀铝薄膜的电阻值越小，其镀铝层的厚度越厚，反之则越薄。

电阻法检测镀铝层的厚度用表面电阻来表示，单位是Ω/□，数值越大说明镀铝层厚度越薄，一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0－2.5Ω/□，国家标准GB/T 15717-1995《真空金属镀层厚度测试方法电阻法》对这一方法进行了详细的规定。

光密度法

光密度（OD）定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。

光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为

OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）

通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10％－0.1％），数值越大镀铝层越厚，美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。

OD值、方阻值和铝层厚度对照表

OPITICAL DENSITY/光密度 OD值	RESISTIVITY/电阻值 Ohm/Square 方阻值	AL THICKNESS/铝层厚度 Å 埃
1.6	3	320
1.8	2.7	360
2.0	2.35	400
2.2	2.05	440
2.4	1.8	480
2.6	1.55	520
2.8	1.3	560
3.0	1.0	600

注：1um＝1000纳米＝10000埃

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